中国打破“芯片”残局！国产光刻机有望翻身，成功突破西方垄断

1. 中国打破“芯片”残局！国产光刻机有望翻身，成功突破西方垄断

中国打破“芯片”残局!国产光刻机有望翻身,成功突破西方垄断

2. 中国的光刻机达到了世界先进水平，但为何生产高端芯片依然困难重重？

 018年12月，中微半导体设备（上海）有限公司自主研制的5纳米等离子体刻蚀机经台积电验证，性能优良，将用于全球首条5纳米制程生产线。5纳米，相当于头发丝直径（约为0.1毫米）的二万分之一，将成为集成电路芯片上的最小线宽。台积电计划2019年进行5纳米制程试产，预计2020年量产。
▲半导体器件工艺制程从14纳米微缩到5纳，等离子蚀刻步骤会增加三倍
刻蚀机是芯片制造的关键设备之一，曾一度是发达国家的出口管制产品。中微半导体联合创始人倪图强表示，中微与科林研发(Lam Research)、应用材料(Applied Materials)、东京威力科创(Tokyo Electron Limited）、日立全球先端科技 (Hitachi High-Technologies) 4家美日企业，组成了国际第一梯队，为7纳米芯片生产线供应刻蚀机。中微半导体如今通过台积电验证的5纳米刻蚀机，预计能获得比7纳米更大的市场份额。
中科院SP超分辨光刻机
提问者所说的中国光刻机达到世界先进水平，应该是指2018年11月29日通过验收的，由中国科学院光电技术研究所主导、经过近七年艰苦攻关研制的“超分辨光刻装备”项目。
该项目下研制的这台光刻机是“世界上首台分辨力最高的紫外(即22纳米@365纳米)超分辨光刻装备”。这是一种表面等离子体（surfaceplasma，SP）超分辨光刻装备。

▲中科院研制成功并通过验收的SP光刻机
该光刻机在365纳米光源波长下，单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米。结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10nm级别的芯片。

▲中科院研发的光刻机镜头
目前这个装备已制备出一系列纳米功能器件，包括大口径薄膜镜、超导纳米线单光子探测器、切伦科夫辐射器件、生化传感芯片、超表面成像器件等，也就是说，目前主要是一些光学等领域的器件。验证了该装备纳米功能器件加工能力，已达到实用化水平。

▲中科院SP光刻机加工的样品
然而，此次验收合格的中科院光电技术研究所的这台表面等离子超衍射光刻机（SP光刻机）的加工精度与ASML的光刻机没法比。没法用于刻几十纳米级的芯片，至少以现在的技术不能。
据光电所专家称，该所研制成功的这种SP光刻机用于芯片制造上还需要攻克一系列的技术难题，目前距离还很遥远。也就是说中科院研制的这种光刻机不能（像一些网媒说的）用来光刻CPU。它的意义是用便宜光源实现较高的分辨率，用于一些特殊制造场景，很经济。
总之，中科院的22纳米分辨率光刻机跟ASML垄断的光刻机不是一回事，说前者弯道超车，就好像说中国出了个竞走名将要超越博尔特。
显然，中科院研制成功的这台“超分辨光刻装备”并不能说明我国在市场主流的的光刻机研制方面已经达到了世界先进水平，那么现阶段我国的光刻机的真实水平又是怎样的呢？且看以下对比。

3. 光刻机只是“幌子”？中科院再迎新技术突破，芯片界将迎变局

在芯片界，光刻机是很多芯片制造公司争相抢购的机器，和一般机器不同的是，光刻机是专门用来制造芯片的。如果是用来生产5nm芯片的话，更是需要EUV光刻机。
  
 台积电和三星希望购得更多的EUV光刻机，花钱都是小事，三星会长李在镕甚至亲自到荷兰ASML会见该公司高层，就是希望可以得到优先供货。可见光刻机有多么重要。
     
 而我国中科院也宣布要入局光刻机，在光刻机的布局上，全力加速。可以预见的是，一旦中国生产出了纯国产光刻机，可以在一定程度上解决国内芯片供应问题。
       
 为了实现这个目标，自然是需要大量光刻机投入到芯片制造产业中的，仅仅靠国外进口的话，别人未必有条件出售光刻机，而一劳永逸的办法就是自己生产制造。只不过想要实现EUV光刻机的生产能力，确实还有一段路要走了。
  
 那么光刻机的布局要如何延续呢？一则消息传来，中科院再迎新技术突破，高端光刻机可能成为其次了。
     
 中科院正式宣布，8英寸石墨烯单晶圆成功亮相，在尺寸和产品质量上都是处于国际领先地位的。中科院在石墨烯芯片材料上迎来了技术突破，什么是石墨烯，石墨烯芯片又是什么呢？
     
 石墨烯作为一种新型材料，在多项领域都能实现很好的应用，具备优异的光学、电学和力学特性。世界各国在对石墨烯材料的研究中，都没能取得比我国更深入的进展，因为我们成功将8英寸石墨烯单晶圆亮相，将来可能用在芯片上。
  
 大家都知道，传统的芯片都是硅基芯片，用硅作为芯片的材料，现有的一切技术，纳米制程，光刻机工艺都是针对硅基芯片展开的。
     
 在一堆沙子中提取纯度为99.9999%的硅，最终制成单晶硅棒，再通过一系列的切割、蚀刻、曝光、光刻、封装等工艺，才能把硅基芯片制造出来。整个制造过程中对光刻机的依赖性是非常大的，没有光刻机，一颗芯片都造不出来。
  
 而石墨烯芯片也被称为碳基芯片，性能是硅基芯片的十倍，而且不会过度依赖高端光刻机。可能以现有的国产光刻机水平，就能生产出性能不错的碳基芯片。
     
 如果能够在石墨烯芯片 探索 上更进一步，完善碳基芯片的生产，那么芯片界或迎变局。这时候再看国内布局光刻机的进展，被视作可能是一个“幌子”，用碳基芯片替代高端光刻机的布局。
     
 而石墨烯芯片的意义也是十分重大的。国际主流的芯片技术都是硅技术，我们想要赶上别人领先十几年的技术，一时半会不太可能。但如果能凭借石墨烯的碳基芯片，是不是就能实现换道超车。
  
 这项意义可谓十分重大，而且在该领域上，各国都未能形成有效的芯片材料替代方案。随着我国8英寸石墨烯单晶圆的面世，或许未来能实现这一切，也未可知。
  
 机会从来都是自找的，主动抓住机会，才能迎来变局，迎来机遇。
     
 光刻机就目前市场局势而言，还是很重要。短期内相信国内的 科技 企业还会继续攻克光刻机技术，而长期的发展来看，石墨烯碳基芯片也能作为一种替代方案。
  
 正所谓有备无患，技多不压身，多掌握一项核心技术，那么在该领域就有更大的话语权，主动权。不至于对方一条规则的发布，就要被卡脖子。
  
 最好的情况是两手抓，把各项不足的地方都给补上，并形成自己的技术体系。这样才不会陷入被动。
  
 你认为石墨烯芯片可行吗？

4. 光刻机有望被替代？新技术曝光，芯片制造又多了一条路

华为之所以能在手机业务上反超苹果，靠的就是一手自研芯片的成绩。海思麒麟在性能上的提升已经出乎了大多数人的意料，自从970时代之后，华为手机的性能就在稳步提升，芯片的AI能力也可圈可点，这一点已经也是公认的事实。但正如当初任正非所预料的那样，华为强大之后就有人“找上门”来，针对华为发起了一系列限制。
     
 尤其在全球化最广泛的半导体领域，华为受到的冲击可谓是相当剧烈，技术无法完全使用，供应链也受到了限制，而这也凸显出了国内在芯片制造环节上的缺陷，暴露了弊端。在芯片制造环节当中，原材料、光刻机等环节是重中之重，虽说原材料可以从日本进口，但光刻机却不是一个国家能完成的。
     
 目前荷兰的ASML是光刻机方面的巨头企业，但其内部零件也是由多个国家、多个企业整合而成，并且中芯之前订购的EUV光刻机也一直迟迟没有发货，这在一定程度上就已经限制了我国芯片事业的发展。虽然目前我国中科院已经将光刻机作为重点研究对象，但短时间内肯定还无法实现商用。
     
 不过就在国产芯片行业受到光刻机等光刻技术限制的时候，我国在另外一项技术上传来了捷报，甚至这个消息的出现将会有望让我国打破国外垄断，取代一直以来的光刻技术。近日，浙江西湖高等研究院传来了消息，曝光了堪比光刻技术的“冰刻技术”。
     
 所谓冰刻技术并不是近两年才提出来的，早在2012年，西湖大学的副校长就提出了关于冰刻的概念与想法。与传统的光刻技术不同，冰刻的做法是在-140 的密闭真空环境当中通过水蒸汽结冰的方式，迅速在晶片上形成冰膜，然后再利用相关技术在冰膜上进行刻录，最后通过挥发等手段完成芯片的制造。
     
 目前冰刻技术已经能够在光纤末端做出复杂的微纳米冰雕，这也就意味着该技术目前在某些特定场合中已经有了一定的实用价值。而这也就意味着冰刻技术的发展前景相当广阔，未来有机会实现对传统光刻技术的替代。
     
 相比于传统的EUV光刻技术而言，冰刻技术有两点优势。首先，冰刻技术不会用到光刻胶，而光刻机则会因为光刻胶的好坏影响到芯片成品效果的问题。其次，光刻机在使用光刻胶之后还要对机器进行彻底清洁，如果清洁不到位，也会降低后续芯片生产的良品率问题。
     
 相比之下，采用电子束和水蒸气的冰刻技术就不会存在这些弊端问题，而这也是冰刻技术最大的优势所在。不过冰刻技术对温度要求过于苛刻，这一点也是冰刻技术相比光刻技术最大的难点。
  
 其次，在冰刻过程当中至关重要的电子束方面，先进技术也掌握在了日本的JEOL与Elionix两家企业的手里，这两家企业的电子束精度都能够达到10nm左右，而国内的电子束技术最先进的也只有1微米。这其中的差距不用多解释想必很多人也都能明白。
     
 所以从现在的情况来看，冰刻技术确实有机会能取代光刻机，光刻机也不再是唯一选择，这也是我国在芯片行业当中突破的又一条路，但冰刻技术也存在着一些不得不面对的难题，所以国内的企业还需要继续努力。
  
 你看好这项技术吗？

5. 光刻机制造的瓶颈在哪里？中国的光刻机何时能够领先世界？

6. 光刻机每台10亿，为何光刻机核心技术很难学到？

手机性能的强悍与否最重要的就是看它的芯片是不是给力。作为手机数据处理的心脏，核心的芯片也是现在各大手机厂商竞相订购的对象。对于咱们中国而言，手机芯片的研发和制造起步时间并不早，但是后起之辈却是速度超群。现在国际上最为先进的手机芯片制式5nm技术的设计工作，华为已经可以实现。但是制造的话，可就不是那么简单的事情了。 
众所周知，在5nm级别芯片的代工方面，华为现在陷入了一个不太好的境况，受制于美国专利技术话语权的影响，各大芯片生产厂商都开始"不得已"拒绝接受华为的订单。而我们国家现在却还不具备量产5nm芯片的技术能力。有人说，不就是不给我们做么，大不了我们自己做。这样的说法是很硬气，但是有点过于想当然尔。 
制作5nm芯片的最为重要的工具：高端光刻机，目前我们国家还没有，并且也暂时没有马上生产出来的能力。这是因为这个利用光学投影原理对硅片进行印刷的技术要求有非常高的精度和准确度，真的可以说是失之分毫差之千里。而现在我们国家自主的技术也只能在极限状态下达到之前主流的7nm级别。 
说起来，光刻机一直都是各个芯片制造厂商最为重要的机器之一。全球最为先进的产品现在出自荷兰，但它并不是荷兰完全拥有知识产权的物品，简单地说荷兰只拥有其中的一小部分，而包括镜头、光源、对准技术在内的核心技术分别掌握在日本、美国和德国手中。正因为如此，美国才能理直气壮趾高气昂的要求相关企业停止向华为供货；而荷兰的ASML甚至放话说，就算是给中国企业光刻机的图纸它们也造不出来。 
光刻机是一个非常精密的机器，看着体型很巨大，但是内部的每一个部件都说得上是高精尖，单单一台光刻机就能卖到10亿人民币。正因为如此，它的研发速度和进展才会变得很难。本身现在就是全球技术大集合的时代，如果只是靠一国之力解决所有的部件生产研发的话那就是已建成几何倍数增长的难事。而恰恰这也是中国正在面对的问题。 你知道吗，一台ASML出品的最新款的EUV光刻机的价格大约在1.5亿美元（10亿人民币）。这样的售价也能证明，其内部的每一个部件可能都是高价值产品。所以真正想要研发并且制作成功当今世界上最为先进的光刻机的话，如果只凭自己可能需要好几代人的努力才能成功。

7. 光刻机制造的瓶颈在哪里？中国的光刻机何时能够领先世界

我个人认为，西方欧美国家在高科技方面抱团对我国及俄国的技术封锁。才造成今天俄罗斯，在高科技电子方面的落后，看看苏30战机内部显示屏，一目了然。今天我国和俄国在大飞机及华为芯片的合作，一定会突破西方的封锁！

目前最先进的光刻机已经不是透镜式，因为波长极短的紫外线会被玻璃吸收，要用反射式镜面，难度更高。我们差的不是一点半点。ASML的光刻机，也离不开蔡司的镜头，美国的光学仪器，也是组装嘛。那么，我们也可以分几步走：暂时搞不好的，可以先买。等将来突破了，再用自己的。如此一来，岂不两全其美。当然，持续研发，需要持续投入，这就离不开国家支持。
自中兴事件以来较少看到有关芯片的好消息，这个消息无疑给国人些许安慰。相信中华民族是强大的民族，国外的技术封锁是阻止不了中国的前进步伐，经过国人艰苦卓绝的努力，一定会在不远的将来突破芯片技术瓶颈独步于天下。

当芯片物理尺寸区别不是很大，功效都是一样时，没有什么值得去纠结的了，在功效一样情况下，他国小尺寸芯片与我国尺寸稍大芯片比较起来，这个尺寸大小完全可以忽略不计了，中国完全没有必要心慌于人，倒是我觉得媒体过度炒作了，中国根本不用慌。
“整个机器需要三万余个零件，每一个零件都不能有丝毫偏差，一丝一毫的偏差都不能使千万的电路一丝不乱，毫无偏差的分布在指甲盖大小的芯片上面，我国在上面要走的路还很长。”，还好，我们是文盲，要不还真让你们这些文科生就给懵了！我们知道有公差配合，配合有标准，有偏差不怕，怕的是公差带设计计算不合理，公差带要求低了，产品不达标，高了产品生产成本高昂，也是浪费。这是常识，用违反常识的言论堆砌的文章，小了被人耻笑，大了那就是误国误民。奉劝不懂理科工科的文科生，以后尽量不要去写理工科的文章。 中国现在有很多领域很落后，原因挺简单：1、没有市场；2、没人去做；3、没有做过。就拿汽车发动机来说，国内的市场就很小或没有，（别跳脚），试问：两辆外观一样的轿车，一辆用吉利发动机一辆用丰田的，价格等都一样，买车时你选哪一个？你的答案就是中国品牌发动机难于打开市场的原因。

没关系的，让他们封锁就是，他们用7nm也好5nm也好，我们就用我们的90nm不就是芯片大点功耗高点么，同样的芯片人家做出来的cpu一点点大我们做出来的一个桌子大也没关系，不就是多耗点电体积大点么我们能用就行，大不了今后扛着手机出门，多洋气。现在国外对我们光刻机禁运。那就想想别的方法。不能用和平方式取得得东西就用别的方式。自己造出这样的设备就先别希望去抢市场了。还是先满足自己使用再说。
许多电子原件技术是80年代后落下的，70年代我们的晶体管质量相当过硬，亲身经历，70年代5安培晶闸管可以长时间工作在10安培！80年代也还可以，算正常吧，90年代就变烂了，直至现在，功放的2SA1216与2SC2922都造不好了！竟然没有真正能代换的国产品，耐压与最大电流都垃圾的不行，只能达到额定量的一半，非得买东芝原厂的才能行！这个早就没有什么技术含量了，但就是造不好，怎么回事？

相信有朝一日，不久将来，终有一日，弯道超车。尽是些无谓说话。今天世界，讲的是全球化，没有任何一个国家可以独霸全球所有科技及制造，军备竞赛，科技竞赛只会极容易使经济崩溃。。尊重世界的游戏规则，尊重契约。融入世界之中，各自发挥优势，扬自己所长，以别人之长补自己所短才是正路。乱呼口号只会误国！国内各大科技公司肯定一窝风的研发光刻机、之类的高科技产品、设备、是不是能有另辟稀径研发新材料、易加工、等等吧！目前的产品、肯定费心费力、费钱。这样才是弯道超车。

干了也就那么回事！十几年前，有人说中国研发不了新车型，外国开发一个新车型要多少百亿美金，什么模具，什么发动机，什么工厂，什么供应链管理，好像要什么没什么。看看现在，去做了，除开不争气的一汽闹个笑话几百亿之外，大家不都在开发新车型吗？大家不都赚钱了吗？光刻机也就那么回事，别人说个数字吓吓你，你也信？
当外国人不给芯片中国的时候，自己做出来的那怕是90纳米也可以用啊，感觉低纳米的东西主要也是电脑和手机这些高端产品用啊，90纳米的做出来，也有很多不追求高性能的地方可以用上啊，比如监控，汽车，电视，路由器，交换机，各种低端智能设备什么的，用得上有很多啊，这些东西，只要做开了，后面就出来了。

我国28nm已经量产了。14nm已经在走量化过成了。国际上从14到现在10用了几年。没那么邪乎。芯片生产有它的特点是高投入高产出它受市场经济影响很大。人家开发早都已抢占了市场。我们后发得不到市场就难以为继。因为投入太高。国家太跟流氓国家讲市场经济了。现在好了美国的流氓手段做到面上了。我国就可以以国家利益手段占领市场了。
自主研发追赶要好过拾人牙慧放弃不追赶，别人高价丢给你现成的不如自己创造机遇生产，那还不如个满大街收破烂的，他还知道卖巧钱挣差价不实诚的他不收还不够他出力拉车的辛苦钱，国家核心技术国之重器岂可以受制于狼子野心的外国？分分钟坑到你倾家荡产，国运岂可以是区区金钱可以衡量的，房子再挣钱能换几个原子弹。

中国已经有独立自主知识产权的光刻机，包括最难的光源设备。只是没有达到荷兰阿斯麦那么先进而已。毕竟中国光刻机起晚，并不是像你们这些自卑心严重的人想的那么困难。达到世界领先水平，相信用不了多长时间。
很大的难度在于精密加工，中国制造业目前还是处于低端，少数高端的，而光刻机要求所有零部件都必须是最顶级的。我只能说，中国会造出来光刻机，但需要时间，毕竟就算懂原理，制造业跟不上也不行，所以目前中国可能造不出顶级光刻机，因为制造业跟不上，但我相信未来一定可以造出光刻机，毕竟中国是全球唯一一个拥有全工业门类的国家！

ASML卖了DUV光刻机给中芯国际，已经卖了EUV光刻机，应该去年底交货。去年初不知道为什么厂房大火，阻碍了交货日期，当今年交货时，因为出口批文过期，再申请后，荷兰政府被川普压迫，不批准出口而已。中芯国际可以用DUV光刻机做7nm芯片，麻烦一些而已。日本的佳能及力康都产光刻机，但没有EUⅤ光刻机。光刻机零件不是军用物品，好像不是对中国禁运。美国可能因为川普之故禁运，但其他国家不好说，尤其是德国。中国也有跟日本购买光刻机。光刻机是人造的，再过几年便可以知道中国人可不可以做。不做的原因是因为市场太细，是缝隙产品，用户又少，养不活太多厂家而已。
集大成说得好，中国现在是制造业大国，但是中国很多制造企业缺少一个精益求精的企业管理精神。量虽然上来了，但是和德国，日本，法国，意大利这样的国家相比，差距很大。可能是中国的工业时代起步较晚，但是工业理念需要一起转变，然后还有一系列的事情要做！信息时代的来临，在大潮中我们受益良多，但是我们是在别人创造出来的基础上延伸，没有做到在基础中抓牢稳固。一个光刻机不难，难得是对每个附件了解透策运用自如。

所以说，中国从小学到大学在到科学家，要重视人才，重视品质，重视科学，现在老师都是看学生家长住什么房子，开什么车子，在什么单位，开什么公司，本质上还是没有做到人人平等，所以中国有些东西是真的没法跟国外比的，为什么国外要封锁中国进口的，高，精，端，产品，主要还是不重视素质教育和人人平等，有钱，有权，有关系的孩子到最后学习不怎么好但最后成了人才，中国就是这点问题。
都是已经成熟的产品，只要世界上有厂家做，就算美国的我们不买，其它国家的未必不卖，相信只要有钱，就算买不到那几家的，其它同类产品也一样能替代，精度也不会差多远！但这样看谁来运作，华为肯定可以做到！国企肯定不行！别问我为何？

说难听点，最后的办法可能就是战争。从宏观角度考虑，世界是动态平衡的，如果谁要刻意让一部分人活不下去，那么结果只能是战争。为什么经济危机会引发世界大战，因为没有哪个民族会坐以待毙。国家现在重点培养的都是，本科生，研究生，博士生，什么工厂的一线技工，根本就是一个屁，屁也不是。随时都有下岗的危险，国外有三代人学一个技术，在一个岗位，干一种活。在中国根本不可能实现。基础技术的延续性根本达不到，何谈机械制品的精度和装配工艺。
光刻机制造瓶颈在克刻的精度要求，所以要以要求定精度，主要是机械制造上要严要，首先是制造的母机精度再谈的上制造精度，再就是制造的人才，精度一高装配就要用热胀冷缩的办法，不光是尺寸合格直线度、平行度、圆柱度都要严，要不装上去动不了。再就是光柱的控制，我认为挡板螺旋挡调光柱是一个可操作的办法。至于放缩电路图、数控不是问题。这就是我的观点。

原子的直径约0.1nm（1埃）或更小，气体分子间距大约1nm（标准状态），直径大约也近似这个大小。制造误差只能以材料分子的大小为单位。分子或原子是不能取小数的。所以，从物质的分子结构看，透镜磨制最小误差（不平整度）应该是半个分子大小，实际可能是一个分子大小，约100pm。
美国也不是买荷兰的光刻机，全世界就这一家造，但是中国就是要样样第一，比如圆珠笔芯全世界也只有瑞士在生产，美国也不行，现在中国也可以生产圆珠笔芯了，要不然喷子又要喷。就象国际空间站一样不带中国玩，最后中国自己搞一个，虽然过程艰苦但还是挺过来了。可控核聚变西方看到中国的实力就拉中国入伙，中国承接的部分进度领先，同时中国自己也独立打造一个自己的，即要合作也要独立。再过二十年，相信中国会在每一个重要领域都站在第一方阵。

8. 国产光刻机！10亿资金涌入，光刻机为何这么热？

众所周知，光刻机和芯片的厚薄程度和芯片的精良程度息息相关。我国缺乏光刻机技术和设备，因此，我国经常会与国外光刻机制造公司进行合作，从而保证国内生产的芯片可以达到国际标准。然而，我国发展芯片和研发芯片过程中遇到了许多困难和挫折，这也使得国产光刻机缓解了部分科研人员的压力。现如今，十亿资金涌入国产光刻机市场，光刻机之所以会到达如此火爆的程度，是因为光刻机与芯片有着很大的关系。我国想拥有一款自主研发的芯片，就必须开展国产光刻机的建造和发展。

荷兰光刻机并不是中国芯片的救命稻草
众所周知，我国通过与世界光刻机十分发达的国家合作，逐步满足国内手机芯片对光刻机的需求。然而，大部分发达国家会采取垄断措施，一方面：为了避免中国拥有光刻机技术之后，中国芯片逐步占领国际市场。另外一方面：每个国家都想分得一杯羹，这也使得大部分拥有资金和科学技术的国家会减少与崛起国家的合作。对于我国芯片市场来说，荷兰的光刻机并不是中国芯片的救命稻草，它只能缓解国内芯片的压力。

第二个原因：光刻机技术发展刻不容缓
大家应该都听说过华为芯片数量不够用，华为既要保证推出的新款机型拥有最为合适的手机芯片，华为公司还要保证老款手机的出货量。更何况华为公司的芯片研发速度特别快，可是华为公司却很难自主生产芯片。如果我国想完全掌握芯片生产和研发的全过程，势必要摆脱其他国家的技术垄断，共同开发和利用国内的光刻机。我国芯片明显出现空缺，因此我国必须发展光刻机技术。

第三个原因：国家大力支持该技术的建设与完善
或许每一个人使用的手机品牌不同，但大部分手机和电脑的芯片是决定手机和电脑性能的关键。尽管许多中国人是出于爱国之情才会购买华为手机，如今，华为公司的手机性能非常好，这也使得越来越多的人主动购买华为手机。国家大力支持信息产业和芯片产业的发展，而光刻机技术决定芯片发展的速度，因此，国家大力支持国产光刻机。
总的来说，光刻机和芯片存在聚生分死的关系，芯片必须通过光刻机才能问世。